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長(zhǎng)沙kemet拋光機(jī)，kemet化學(xué)機(jī)械拋光的應(yīng)用，CMP 通常用于制造微電子設(shè)備，例如計(jì)算機(jī)芯片和存儲(chǔ)設(shè)備。這些設(shè)備具有復(fù)雜的幾何形狀，需要高水平的表面均勻性，而使用傳統(tǒng)的拋光方法很難實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)。CMP 還...

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